- Title
- Silicon films deposited by Low-Pressure Chemical Vapour Deposition for microsystems
- Creators - without role
- H. Mahfoz-Kotb - Institut d'Electronique et de Télécommunications de RennesAnne-Claire Salaün - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRiqueTayeb Mohammed-Brahim - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRiqueF. Bendriaa - Institut d'Electronique et de Télécommunications de RennesFrance Le Bihan - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRiqueOlivier Bonnaud - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRiqueH Kotb - King Faisal University
- Publication Details
- Diffusion and defect data, Vol.93, pp.453-458
- Publisher
- Trans Tech Publications Ltd
- Identifiers
- 9919480508331
- Academic Unit
- King Faisal University
- Language
- English
- Resource Type
- Journal article
Journal article
Silicon films deposited by Low-Pressure Chemical Vapour Deposition for microsystems
Diffusion and defect data, Vol.93, pp.453-458
2003
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