J. C. Denardin - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
A. L. Brandl - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
M. Knobel - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
P. Panissod - Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg
A. B. Pakhomov - Hong Kong University of Science and Technology
H. Liu - Hong Kong University of Science and Technology
X. X. Zhang - Hong Kong University of Science and Technology